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edi電控櫃不送點也能運行嗎

發布時間: 2021-04-09 14:04:00

Ⅰ EDI去離子水設備的日常維護,怎麼做

運行數據記來錄


EDI模塊系統記錄表自應每天填寫,以便及早發現是否有可能會使保修失效或對膜堆造成破壞的問題。在本章最後附有一張常用的記錄表。因為具體的儀器儀表可能會因安裝膜堆的系統不同而各異,因此本記錄表可能不適用於您所用的系統。系統手冊應包含有更適合您所用的系統的記錄表。但表中的粗體字項目必須填寫,以確保膜堆的保修有效。

定期維護

至少每六個月對膜堆進行一次下述檢測。

1.檢査膜堆是否有任何漏水的跡象。如有漏水,請査看檢修部分以尋求可能的解決方案

2.仔細檢査膜堆是否在隔板,電極板,或端板上留下鹽類沉積物。如有明顯的鹽類沉積物,請關閉電源,洗去膜堆上的鹽類沉積物。

警告:未能清除膜堆上的鹽類沉積物將導致膜堆或系統的損壞。

3.定期擰緊所有電力連接頭。

4.檢査膜堆螺栓的扭矩。



特殊性維護指南

EDI膜堆可能需要定期凊洗或消毒。清洗除去膜堆中的結垢及樹脂/膜上的污染物。


Ⅱ 電廠運行夜班一點都不能睡嗎

電廠運行夜班是肯定不能睡,電廠是特殊行業,如遇到故障或險情不能及時發現或處理,是會出大事的。

Ⅲ 在單級反滲透+EDI不加中間水箱時,怎樣設計EDI水泵在沒有進水的時候自動停止運行需要

不用中間水箱可以防止再次污染,單這樣多RO膜不好,建議在2T以上設備都內配上中間水箱容!
中間水箱設計的必要性:
1、中間水箱可以可以發揮有效的緩沖作用,可以液位連鎖控制前段RO及後端EDI的自動連鎖啟停;
2、EDI啟動時不合格的EDI產水可以迴流至前端的中間水箱,有效地防止水源浪費,提高運行成本;
3、如中間水箱容積足夠大,可以為檢修或事故處理爭取更多的時間,工藝穩定性會得到更有效的保障;
EDI水泵當無產水時怎樣防止EDI水泵空轉:
可以在電控系統來直接控制!一般的水處理公司都可以做到!
但壓力變送器其實也可以!

Ⅳ EDI模塊可能的損壞情況是什麼

恩臨小編009:EDI模塊燒壞的原因與防範措施。
張力:EDI模塊燒壞的原因主要是EDI整流版電源的聯鎖權保護出現了問題,大家知道不通水的情況下EDI模塊是不能加直流電的。另外,在EDI設備供水泵採用變頻控制在停車的過程中或整流電源的軟啟動功能失靈的情況下也會出現EDI模塊燒壞的問題。當然,因EDI模塊結垢等流量較低的情況下,人為解除流量斷水保護也是用戶應該重視的問題。

Ⅳ 游戲正常運行,能點擊,就是黑屏,什麼也看不到!

這個是電源設置問題,游戲運行的時候用的是高性能,這個時候用的獨立顯卡,切換桌面又變回來用的是集成顯卡,切換桌面當然會卡黑屏,要全局使用獨立顯卡才行。

Ⅵ 什麼是EDI水處理裝置

EDI水處理裝置是指的EDI模塊:

EDI,又稱連續電除鹽技術,它是將傳統電滲析專技術和離子交換技術相結屬合,在電場力的作用下,通過陽、陰離子膜對陽、陰離子的選擇透過性作用以及離子交換樹脂對水中離子的交換作用,使水中離子作定向遷移,從而實現水的深度凈化除鹽。水電解產生的氫離子和氫氧根離子對樹脂進行連續再生,因此EDI模塊制水過程不需要酸鹼化學再生即可連續製取高品質超純水

EDI模塊

EDI模塊有哪些特點?

1、產水穩定安全,可以進行隨時監測保證水質是一直合格的。

2、系統自動化程度高,操作控制簡單方便,可以無人化生產,減少了勞動力。

3、連續穩定產水,再生時不需要對設備停機,更加方便快捷。

4、無污染,在生時不需要對其投加化學試劑,因此減少了對環境的污染。

5、成本低。設備經過合理的設計,運行穩定並有效節約了成本。

6、裝置結構緊湊減少了佔地面積,節省了空間,間接的減少了運行成本。

7、原水利用率高,幾乎沒有廢水的排放。

Ⅶ EDI超純水處理設備的EDI的優點

1、設備具有連續運行性,不需要再生產。離子交換和再生產同步,無需停機再生,專更不必有屬有酸鹼儲運設備及計量設備等。
2、水質更加的穩定。混床中的樹脂總有一個逐步失效的過程,所以它的水質也從合格逐步的失效。而用EDI制水工藝離子交換和再生是同步的,其水質非常的穩定。
3、EDI設備運行更加的環保,沒有酸液、鹼液排放,可以節水節能合理會用全部的濃水。
4、降低運行成本。EDI設備運行只需要消耗電力,而混床技術還需要酸鹼。所以DEI超純水設備節約酸鹼降低了運行的成本。
5、操作更加的簡單,只需要調節電源的電壓、電流、實現了全自動的控制。
6、出水水質好,並且延長了設備的使用壽命。
7、設備佔地小,廠房高度要求低,3米足夠。
8、設備安裝維修簡單便捷,任一膜塊的維修、更換都不影響其他膜塊的運行。
9、總投資少,EDI雖然本身價位高,但是節省了廠房用地成本,節省了運行成本。總體降低了總投資費用。

Ⅷ EDI系統的系統運行

(1)EDI進水電導率的影響。在相同的操作電流下,隨著原水電導率的增加EDI對弱電解質的去除率減小,出水的電導率也增加。如果原水電導率低則離子的含量也低,而低濃度離子使得在淡室中樹脂和膜的表面上形成的電動勢梯度也大,導致水的解離程度增強,極限電流增大,產生的H+和OH-的數量較多,使填充在淡室中的陰、陽離子交換樹脂的再生效果良好。
(2)工作電壓-電流的影響。工作電流增大,產水水質不斷變好。但如果在增至最高點後再增加電流,由於水電離產生的H+和OH-離子量過多,除用於再生樹脂外,大量富餘離子充當載流離子導電,同時由於大量載流離子移動過程中發生積累和堵塞,甚至發生反擴散,結果使產水水質下降。
(3)濁度、污染指數(SDI)的影響。EDI組件產水通道內填充有離子交換樹脂,過高的濁度、污染指數會使通道堵塞,造成系統壓差上升,產水量下降。
(4)硬度的影響。如果EDI中進水的殘存硬度太高,會導致濃縮水通道的膜表面結垢,濃水流量下降,產水電阻率下降;影響產水水質,嚴重時會堵塞組件濃水和極水流道,導致組件因內部發熱而毀壞。
(5)TOC(總有機碳)的影響。進水中如果有機物含量過高,會造成樹脂和選擇透過性膜的有機污染,導致系統運行電壓上升,產水水質下降。同時也容易在濃縮水通道形成有機膠體,堵塞通道。
(6)進水中CO2的影響。進水中CO2生成的HCO3-是弱電解質,容易穿透離子交換樹脂層而造成產水水質下降。
(7)總陰離子含量(TEA)的影響。高的TEA將會降低EDI產水電阻率,或需要提高EDI運行電流,而過高的運行電流會導致系統電流增大,極水余氯濃度增大,對極膜壽命不利。
另外,進水溫度、pH值、SiO2以及氧化物亦對EDI系統運行有影響。 (1)進水電導率的控制。嚴格控制前處理過程中的電導率,使EDI進水電導率小於40μS/cm,可以保證出水電導率合格以及弱電解質的去除。
(2)工作電壓-電流的控制。系統工作時應選擇適當的工作電壓-電流。同時由於EDI凈水設備的電壓-電流曲線上存在一個極限電壓-電流點的位置,與進水水質、膜及樹脂的性能和膜對結構等因素有關[4]。為使一定量的水電離產生足夠量H+和OH-離子來再生一定量的離子交換樹脂,選定的EDI凈水設備的電壓-電流工作點必須大於極限電壓-電流點。
(3)進水CO2的控制。可在RO前加鹼調節pH,最大限度地去除CO2,也可用脫氣塔和脫氣膜去除CO2。
(4)進水硬度的控制。可結合除CO2,對RO進水進行軟化、加鹼;進水含鹽量高時,可結合除鹽增加一級RO或納濾
(5)TOC的控制。結合其他指標要求,增加一級RO來滿足要求。
(6)濁度、污染指數的控制。濁度、污染指數是RO系統進水控制的主要指標之一,合格的RO出水一般都能滿足EDI的進水要求。
(7)Fe的控制。運行中控制EDI進水的Fe低於0.01
mg/L。如果樹脂已經發生了「中毒」,可以用酸溶液作復甦處理,效果比較好。
(8) EDI系統進水水質要求
綜合以上各方面的分析,對於EDI進水的水質要求如表所示,可以保證其出水指標達到電子行業半導體製造需要的高純水的要求。 EDI技術被制葯工業、微電子工業、發電工業和實驗室所普遍接受。在表面清洗、表面塗裝、電解工業和化工工業的應用也日趨廣泛。 YR-EDI 進水要求成 分 范 圍總可交換陽離子(包括Co2) < 25mg/L(以CaCo3計) PH值 5-9 硬度(CaCo3計) < 0.1 < 0.5 < 0.75 < 1.0 回收率 95% 90% 85% 80% 活性Sio2 < 0.5mg/L 總有機碳(TOC) < 0.5mg/L 游離氧 < 0.5mg/L YR-EDI 技術規格參 數 范 圍單個模塊流量 7.2-15GPM(1.6-3.4m3/h)正常回收率 80-95% 溫度 40-100°F(5to38°C)進口壓力 45-100psi(3.1-6.8Bar)輸入電壓 600VDC(最大)電耗 0.32-0.66KW.h/m3 外形尺寸 12"Wx24"Hx19"D 300mmWx610mmHx(90mmD

Ⅸ 圖里的繼電器常閉點可以不用嗎,,,如果去掉能保持正常運行嗎

不能,這個常閉點是延時斷開星形接觸器,如果去掉了,星形接觸器不能斷開,三角形接觸器啟動時將和星形接觸器的線路短路暴炸,很危險。

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