EDI产水二氧化硅高的原因

⑴ 纯净水出现二氧化硅含量过高

硅酸盐类含量高，当做二氧化硅计算的。 应该是人工添加了什么的，天然的硅酸盐矿泉水不多。

⑵ 影响EDI产水水质的主要因素有哪些

纯水一号来水处理为您分析自影响超纯水设备运行的主要因素有。 1.进水电导率影响 在保证其他条件不变的前提下，随着原水电导率的上升，脱盐效果变差。这是因为进水电导超过一定范围后，模块的工作区间往下移动，乃至再生区消失，工作区穿透

⑶ 混床再生处理后为什么二氧化硅超标，比进水还要大

混床出水SiO2超标的原因 ：
1.1除硅系统不完善。反渗透装置后续处理直接为二级混床离子交换除盐. 由于 RO 为物理除盐,所以一级混床进水中含有 s0:一,cL 一,HC03,HSiO3-等所有 阴离子,经过混床阴 树脂的交换后,进入二级混床的主要是 HCOf,HSi03-两种阴离子,经测定其中 HSi03-含量是xJco;含 倍,这样在终点到达时,失效的二级混床阴树脂中,RHSiO,比例高达75%～85%.这时,常规 的再生方法已无法彻底去除硅酸,所以再次投运时会导致混床出水SiO:含量超标, 将这种现象称之为 "硅污染".硅污染易发生在二级混床的强碱性阴树脂中,用正常的再生方法无法彻 底地将这些硅洗脱 来,其结果往往导致阴树脂的除硅能力较大幅度的下降,再生后混床出水硅含量超标.
2.常规再生方法的不足。 对发生硅污染的混床,常规的再生用碱量不足以保证再生效果,其原因:不足量的再生液流经树脂层时先是发生部分硅化合物被再生下来的过程,部分硅化合物仍残留在树脂中。

⑷ edi出水硬度高是什么原因

EDI出水硬度高，说明前级装置出现了问题，EDI进水水质要求硬度≤2ppm或者更低回。一般情况下答，前端会通过软化或者在反渗透之前投加阻垢剂，反渗透系统出现问题的可能性较大，脱盐水系统环环相扣，该预处理来负担的，不应该让反渗透来负担，该反渗透负担的，同样不应该让EDI来完成去除硬度的任务，任何一个环节出现问题，都会导致系统出现问题。

⑸ 反渗透产水二氧化硅高是什么原因

楼主你好，反渗透产水出现细菌主要有以下几种可能：
1、反渗透出现生物污染，生物污染主专要发生属在一段，主要体现为一段进水压力的增加，段间压差增大，膜生物污染会引起产水生物污染。
2、产水箱要定期杀菌，因为反渗透产水中已没有余氯，所以只要产水箱中有少量细菌，极易快速繁殖形成二次污染，因此要及时对产水箱进行杀菌作业。
3、浓水窜入产水，造成产水中含有细菌，这主要发生在膜元件连接密封漏水情况下，同时伴有产水电导率升高。
4、要排除取样端口污染及取样器材污染可能性，取样时要在反渗透近点取水，取样时要多排放，将取样管中的残水排出，取新鲜产水。取样瓶要做杀菌处理，水样不要长时间存放，这些都要注意的。
希望对你有所帮助，有疑问可以继续追问，呵呵。

⑹ EDI产水金属离子超标咋解决

EDI是通过用氢离子或氢氧根离子将RO水中的残余盐类交换并将它们送至浓水流中而除去，EDI是将电渗析和离子交换相互结合在一起的除盐新工艺 1，EDI工作原理答：交换反应在膜块的纯化室进行，在那里阴离子交换树脂用它们的氢氧根离子(OH-)来交换溶解盐中的阴离子(如氯离子Cl-)。相应地，阳离子交换树脂用它们的氢离子(H+)来交换溶解盐中的阳离子(如Na+)。在位于膜块两端的阳极(+)和阴极(-)之间加一直流电场。电势就使交换到树脂上的离子沿着树脂粒的表面迁移并通过膜进入浓水室。阳极吸引负电离子(如Cl-，OH-)，这些离子通过阴离子选择膜进入相临的浓水流却被阳离子选择膜阻隔，从而留在浓水流中。阴极吸引浓水流中的阳离子(如Na+，H+)。这些离子通过阳离子选择膜进入相临的浓水流却被阴离子选择膜阻隔，从而留在浓水流中。当水流过这两种平行的室时，离子在纯水室被除去并在相临的浓水流中聚集，然后由浓水流将其从膜块中带走。 在纯水和浓水中离子交换树脂的使用是EDI技术的关键。一个重要的现象在纯水室的离子交换树脂中发生。在电势差高的局部区域，电化学反应分解的水产生大量的H和OH。在混床自理交换树脂中局部H和OH的产生使树脂和膜不需要添加化学药品就可以持续再生。 2，EDI的概述答：市政自来水→原水箱→原水泵→石英砂过滤器→活性炭过滤器→保安过滤器→一级增压泵→一级RO反渗透→中间水箱→二级增压泵→二级RO反渗透→纯水箱→纯水泵→0.45μ精密过滤器→TOC脱除器→EDI装置→电阻率仪→抛光混床→0.22μ精密过滤器→电阻率仪→清洗机

⑺ 混床更换树脂后，除盐水二氧化硅高，而未更换树脂的混床产水正常，二氧化硅高怎么处理

混床出水SiO2超标的原因 ：
1.1除硅系统不完善。反渗透装置后续处理直接为二级混床离子交换除盐专. 由于 RO 为物理除盐,所以属一级混床进水中含有 s0:一,cL 一,HC03,HSiO3-等所有 阴离子,经过混床阴 树脂的交换后,进入二级混床的主要是 HCOf,HSi03-两种阴离子,经测定其中 HSi03-含量是xJco;含 倍,这样在终点到达时,失效的二级混床阴树脂中,RHSiO,比例高达75%～85%.这时,常规 的再生方法已无法彻底去除硅酸,所以再次投运时会导致混床出水SiO:含量超标, 将这种现象称之为 "硅污染".硅污染易发生在二级混床的强碱性阴树脂中,用正常的再生方法无法彻 底地将这些硅洗脱 来,其结果往往导致阴树脂的除硅能力较大幅度的下降,再生后混床出水硅含量超标.
2.常规再生方法的不足。 对发生硅污染的混床,常规的再生用碱量不足以保证再生效果,其原因:不足量的再生液流经树脂层时先是发生部分硅化合物被再生下来的过程,部分硅化合物仍残留在树脂中。

⑻ 新混床出水SiO2合格，但钠离子偏高可能有哪些原因

再生没再生好，我处也出现过同样问题。可能分层或进酸碱量不合理。还有可能就是树脂比例不合理。阳树脂多阴树脂少，再生时碱液将一部分阳树脂污染或致其失效.才出现硅合格钠离子高现象

⑼ 锅炉的炉水二氧化硅超表是什么原因及相应的解决办法

二氧化硅是自然界常见的矿物质，这种物质在锅炉水中，会在锅炉内生成难以清洗的硅酸盐水垢。对锅炉的性能寿命都有很严重的影响，

解决办法，最好使用专业的锅炉水缓释阻垢剂，进行中和。最好还是改进净水装置，用离子交换反渗透等办法，净化锅炉水，这样保证锅炉正常运行。

(9)EDI产水二氧化硅高的原因扩展阅读：

二氧化硅在日常生活、生产和科研等方面有着重要的用途，但有时也会对人体造成危害。二氧化硅的粉尘极细，比表面积达到100m2/g以上可以悬浮在空气中，如果人长期吸入含有二氧化硅的粉尘，就会患硅肺病（因硅旧称为矽，硅肺旧称为矽肺）。

硅肺是一种职业病，它的发生及严重程度，取决于空气中粉尘的含量和粉尘中二氧化硅的含量，以及与人的接触时间等。长期在二氧化硅粉尘含量较高的地方，如采矿、翻砂、喷砂、制陶瓷、制耐火材料等场所工作的人易患此病。

因此，在这些粉尘较多的工作场所，应采取严格的劳动保护措施，采用多种技术和设备控制工作场所的粉尘含量，以保证工作人员的身体健康。

⑽ 锅炉省煤器入口给水二氧化硅超标的原因及处理

锅炉给水二氧化硅超标，这个二氧化硅实际就是沙子，这个问题主要是来自于自来水。不知道锅炉给水的水源是什么，估计是没有经过处理的井水。正常情况下，井水要经过除沙器，然后经过软化过滤，二氧化硅的含量几乎是没有了。